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杨汝清，号水木心斋，字杭之，生于河北张家口，儒家学者、苇杭书院山长。2018年10月13日上午10时，因心脏病突发逝世于江西九江。

1992年～1999年，杨汝清在张家口的一所监狱担任警察，1999年辞职。2001年～2003年，杨汝清就读于清华大学法学院，2003年毕业。2001年～2006年，杨汝清在北京的一耽学堂任义工讲授课程，并主管宣传。2006年底，杨汝清在北京创建苇杭书院。2009年冬，杨汝清在苇杭书院举办以“孝”为议题的年度会讲，随后8年，又分别以“礼”、“信”、“耻”、“廉”、“义”、“和”、“忠”、“恕”为题举行了8期会讲。2018年10月13日，杨汝清因心脏病突发，在出差途中逝世于江西九江火车站，享年48岁。

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磨料是平坦化工艺中研磨材料和化学添加剂的混合物，研磨材料主要是石英，二氧化铝和氧化铈，其中的化学添加剂则要根据实际情况加以选择，这些化学添加剂和要被除去的材料进行反应，弱化其和硅分子联结，这样使得机械抛光更加容易。在应用中的通常有氧化物磨料、金属钨磨料、金属铜磨料以及一些特殊应用磨料。台湾主要的厂商有长兴科技公司。

抛光垫通常使用聚亚胺脂（Polyurethane）材料制造，又称聚氨酯抛光垫、抛光阻尼布、氧化铈抛光垫，利用这种多孔性材料类似海绵的机械特性和多孔特性，表面有特殊之沟槽，提高抛光的均匀性，垫上有时开有可视窗，便于线上检测。通常抛光垫为需要定时整修和更换之耗材，一个抛光垫虽不与晶圆直接接触，但使用寿命约仅为45至75小时。在全球不断并购下，目前主要生产厂商为陶氏化学集团（DOW CHEMICALS）及中国龙头合肥宏光研磨科技生产。

CMP设备与晶圆生产中的抛光设备有相似之处（见上图），但集成电路硅片中很多材料的加入以及金属层的增加使得CMP设备不能如同抛光设备那样简单，而需要加入特别的过程获得平坦化的效果。这主要体现在对抛光厚度、抛光速率的检测上，被称作终点检测，通常有电机电流终点检测、光学终点检测。

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