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更新于 2026-10-06

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* 二期工程2台100MW火力机组,由苏联制造。

* 三期工程是中国四五计划期间进口的苏联两台20万千瓦火力发电机组。

* 四期工程是中国五五计划期间进口的苏联两台20万千瓦火力发电机组。

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* 陈献智 武警少将(1997年10月—2006年12月)

* 张铭 武警少将(1997年12月—2000年5月)

* 胥昌忠 武警少将(1998年12月—2005年5月)

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本节讨论通常用于集成电路的CVD工艺。不同的材料会应用于不同的环境。

多晶硅是从硅烷(SiH4)沉积所得到的。使用以下反应:

这种反应通常使用低压化学气相沉积系统(LPCVD),使用单纯的硅烷或用70-80%的氮硅烷作为原料。在温度在600°C至650°C之间,压力为25~150帕斯卡的条件下,沉积速度在每分钟10至20纳米之间。另一种工艺使用氢为还原剂。氢气会降低增长速度,所以温度提高到850甚至1050℃进行补偿。

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