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脉冲雷射沉积（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被称为脉冲雷射烧蚀（pulsed laser ablation，PLA）为物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)的一种 , 是一种利用聚焦后的高功率脉冲雷射于真空腔体中对靶材进行轰击，由于雷射能量极强，会将靶材汽化形成电浆蕈状团(plasma plume)，并沉淀于基板上形成薄膜。
于镀膜可于高真空、超高真空或通入工作气体(如欲沉积氧化物薄膜，通常会通入氧气作为其工作气体)的环境下进行。
于脉冲雷射沉积的过程中，雷射的能量被靶材吸收之后，能量首先激发靶材内部的电子跃迁，之后再转成热能等使靶材汽化形成电浆态，于电浆云中，包含分子、原子、电子、离子、微粒、融球体等物质。
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* 扬·斯坦尼斯瓦夫·卡恩科夫斯基（1617年－1647年）
* 扬·卡兹梅尔兹·克拉兴斯基（1650年－？）
* 扬·多布罗格斯基·克拉兴斯基（1688年－？）
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