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更新于 2026-10-07

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马天骥在绍定二年(1229年)中进士,补签书领南判官厅公事。转任秘书省正字兼沂靖惠王府教授。转任秘书省校书郎,升任著作佐郎。轮值上殿策对,用司马光五规的名义,分条上奏时事敝端,言辞恳切率直。升任考功郎官,入宫回答皇帝问话,说:“周世宗再天下四分五裂之时,一心振奋刷新,还能转弱为强,陛下有能够做到的条件,乘着可为之势,一转变只需瞬间。”

转任秘书监、直秘阁、知吉州。转任宗正少卿,以秘阁修撰知绍兴府,主管浙东安抚司公事兼提举常平。权兵部侍郎,授为沿海制置使,差遣为知庆元府。改任知池州兼江东提举常平。改任知广州兼广东经略安抚使。

宝祐四年(1256年),升任礼部侍郎,兼直学士院,兼侍读,兼国子祭酒。拜为端明殿学士、同签书枢密院事,封信安郡侯。宝祐五年(1257年),被殿中侍御史朱熠、右正言戴庆炣、监察御史吴衍翁应弼等人弹劾罢职,依旧职提举洞霄宫。景定元年(1260年),知衢州,被兵部侍郎章鉴弹劾罢职。有旨,依旧职予祠。起知福州、福建安抚使,以职事修举,升任大学士。改知平江府。又改知庆元府兼沿海制置使,提举洞霄宫。夺职罢免祠奉。咸淳三年(1267年),追夺执政的待遇,送到信州居住。咸淳四年(1268年),下令随便居住,解除编管,后在家中去世。

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三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演「清洁剂」的角色,不过这类清洁剂是气态,而非液态。

在半导体中,薄膜制程的主要设备是「化学气相沉积」(CVD)机台,会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金属材料,但这些材料不仅会附著在晶片上,也附著在反应室内的墙壁上,内墙上的二氧化矽累积至相当数量,就会在反应室内形成微尘粒子(Particle),影响晶圆片的良率。

因此每台CVD机台在处理过规定数量的晶圆片后,就要使用含氟的气体清洗,以去除内壁上的矽化物质。不过NF3与CF4、C2F6等气体都属于多氟碳化物,是造成温室效应的来源之一。半导体厂为了降低排气对温室效应的影响,在排放含氟废气前,会以高温(摄氏700、800度才进行)将气体由有机转分解为无机,才不会破坏臭氧层。

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