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由于遭到排挤，露丝放弃欧洲文化的研究，转而投入研究日本文化的团队，由于她巧妙回避掉当时研究者对心理学研究方式的论战，使她的成果远远比它人丰硕。1945年，她请假回到加利福尼亚州专心写作《菊与刀》，并于隔年完书付梓。
《菊与刀》是露丝・班乃迪克以文化遥距研究法做出来的成果：她透过当时日本发布的宣传电影、集中营中的日裔美国人和战俘的访谈纪录以及日本人的文学作品中收集资料，重新建构出日本文化以及对日本战后重建的期许。书中，她不但以文化形貌论谈论日本文化的特质，并从孩童教养的角度剖析日本人的生命史。其细腻的描述摆脱了学术上的论战，也因此掀起了读者们的好奇心与之后美国的日本研究风潮。
1946年6月，露丝・班乃迪克获颁American Association of University Women的杰出女性奖，同年秋天回到哥伦比亚大学任教，并获选为美国人类学会主席，同时申请到“哥伦比亚大学当代文化研究”（Columbia University Research in Contemporary Cultures）的研究计划。1947年7月1日她正式被哥伦比亚大学获聘为教授。
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新店里是台湾嘉义市东区底下的一里，位在东区的西北边，东邻后庄里，西邻太平里，南邻玉田里，北邻顶庄里。
在台湾日治时期后期，此地划分为台南州嘉义街（1930年后为嘉义市）卢厝（大字）。
* 7319 大雅站—番路(部分班次延驶黎明国小)
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三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演「清洁剂」的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。
在半导体中，薄膜制程的主要设备是「化学气相沉积」（CVD）机台，会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金属材料，但这些材料不仅会附著在晶片上，也附著在反应室内的墙壁上，内墙上的二氧化矽累积至相当数量，就会在反应室内形成微尘粒子（Particle），影响晶圆片的良率。
因此每台CVD机台在处理过规定数量的晶圆片后，就要使用含氟的气体清洗，以去除内壁上的矽化物质。不过NF3与CF4、C2F6等气体都属于多氟碳化物，是造成温室效应的来源之一。半导体厂为了降低排气对温室效应的影响，在排放含氟废气前，会以高温（摄氏700、800度才进行）将气体由有机转分解为无机，才不会破坏臭氧层。
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