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天台山伍龙寺位于中国贵州省安顺市平坝县天龙镇，又称清净禅院，始建于明万历十八年（1590年），集佛寺、道观及军事堡垒于一体，2001年被列为第五批全国重点文物保护单位。
天台山高约70米，三面绝壁，仅一面为陡坡。山顶伍龙寺，有山门、大佛殿、玉皇阁、关圣殿、祖师殿等建筑，整个建筑群的外墙紧贴悬崖而建。大佛殿面阔10.29米，进深8.42米，前廊顶上为鹤颈轩，轩梁下有“二十四孝”浮雕。玉皇阁面阔8.1米，进深5.48米，二层三檐歇山顶。关圣殿面阔12.9米，进深8.63米。祖师殿面阔12.44米。
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抛光垫通常使用聚亚胺脂（Polyurethane）材料制造，又称聚氨酯抛光垫、抛光阻尼布、氧化铈抛光垫，利用这种多孔性材料类似海绵的机械特性和多孔特性，表面有特殊之沟槽，提高抛光的均匀性，垫上有时开有可视窗，便于线上检测。通常抛光垫为需要定时整修和更换之耗材，一个抛光垫虽不与晶圆直接接触，但使用寿命约仅为45至75小时。在全球不断并购下，目前主要生产厂商为陶氏化学集团（DOW CHEMICALS）及中国龙头合肥宏光研磨科技生产。
CMP设备与晶圆生产中的抛光设备有相似之处（见上图），但集成电路硅片中很多材料的加入以及金属层的增加使得CMP设备不能如同抛光设备那样简单，而需要加入特别的过程获得平坦化的效果。这主要体现在对抛光厚度、抛光速率的检测上，被称作终点检测，通常有电机电流终点检测、光学终点检测。
在抛光工艺过程中，磨料和被抛光对象都会造成硅片的沾污，清洗的主要目的就是为了清除这些沾污物质，使硅片的质量不致受到影响。所采用到的清洗设备有毛刷洗擦设备、酸性喷淋清洗设备、超声波清洗设备、旋转清洗干燥设备等。清洗步骤主要有氧化硅清洗、浅沟槽隔离清洗、多晶硅清洗、钨清洗、铜清洗等。
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