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南京字、南京话字、南京话用字、南京方言用字是泛称用于书写南京话白话文的汉字。
对很多地方话而言，“方言字”多是古代典籍中已曾使用的汉字（即使存在少数无字源的“方言字”，也跟北京话中的“的”、“个”等字类似，为有一定历史的假借字），而并非为某一方言生造出来，参见汉朝书籍《方言》。自古至今有数万汉字，而现代以北京话为基础的普通话只用其中的数千，其它大量汉字依旧在各方言口语中使用。由于语文教育以普通话为基础，大多数人从没学过自己方言独有（而北京官话没有）的字眼应该如何写，于是这些普通话用不上的字就被当成了冷僻的方言字。大多数人也会误以为，自己的方言词汇来源不明，没有汉字能表达。
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抛光垫通常使用聚亚胺脂（Polyurethane）材料制造，又称聚氨酯抛光垫、抛光阻尼布、氧化铈抛光垫，利用这种多孔性材料类似海绵的机械特性和多孔特性，表面有特殊之沟槽，提高抛光的均匀性，垫上有时开有可视窗，便于线上检测。通常抛光垫为需要定时整修和更换之耗材，一个抛光垫虽不与晶圆直接接触，但使用寿命约仅为45至75小时。在全球不断并购下，目前主要生产厂商为陶氏化学集团（DOW CHEMICALS）及中国龙头合肥宏光研磨科技生产。
CMP设备与晶圆生产中的抛光设备有相似之处（见上图），但集成电路硅片中很多材料的加入以及金属层的增加使得CMP设备不能如同抛光设备那样简单，而需要加入特别的过程获得平坦化的效果。这主要体现在对抛光厚度、抛光速率的检测上，被称作终点检测，通常有电机电流终点检测、光学终点检测。
在抛光工艺过程中，磨料和被抛光对象都会造成硅片的沾污，清洗的主要目的就是为了清除这些沾污物质，使硅片的质量不致受到影响。所采用到的清洗设备有毛刷洗擦设备、酸性喷淋清洗设备、超声波清洗设备、旋转清洗干燥设备等。清洗步骤主要有氧化硅清洗、浅沟槽隔离清洗、多晶硅清洗、钨清洗、铜清洗等。
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天正18年（1590年）丰臣秀吉发起小田原征伐，因成田氏臣属于后北条氏，忍城遭受丰臣军的攻击，当时为城主的成田氏长率领援军前往小田原城，由成田泰季担任城代，当时约有三千余军坚守城池，包含侍、足轻和村民等。丰臣方则是由石田三成作为总大将，虽然三成打算在利根川上建设堤防，运用水攻攻陷忍城，最终效果不彰，亦无法攻入城内（忍城之战）。后来因小田原城开城投降，忍城才随之开城。
同年，德川家康转封关东，于文禄元年（1592年）由家康的四子松平忠吉担任城主，宽永16年（1592年）由任职幕府老中职位的阿部忠秋接负其位，进行整备忍城跟城下町的工作。
文政六年（1823年）阿部氏移封至白河藩，直到明治维新皆为奥平松平氏担任城主之职。
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