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更新于 2026-10-10

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三氟化氮(NF3)是卤化氮中最稳定的无机化合物,可在铜的催化下由氨气与氟气制成。 它可以用作氟化氢激光器的氧化剂,半导体、液晶和薄膜太阳能电池生产过程中的蚀刻剂。曾被试做火箭燃料。 但由于三氟化氮属于温室气体,能加剧温室效应,因此有人认为应该限制这种化合物的使用。

三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演「清洁剂」的角色,不过这类清洁剂是气态,而非液态。

在半导体中,薄膜制程的主要设备是「化学气相沉积」(CVD)机台,会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金属材料,但这些材料不仅会附著在晶片上,也附著在反应室内的墙壁上,内墙上的二氧化矽累积至相当数量,就会在反应室内形成微尘粒子(Particle),影响晶圆片的良率。

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