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优波扇多，梵名Upaśānta，又作优波膻大、优波膻驮，较接近梵音的汉语音译应为“乌波扇德”。约生于西元三世纪顷之比丘，其事迹不详。著有《阿毗昙心论》六卷，系因法胜《阿毗昙心论》过于简略，而依之再增广而成者。《出三藏记集》卷十二列举萨婆多部记目录五十三祖中，第三十祖名为优波膻驮罗汉；又于同书之佛大跋陀罗师宗相承五十四祖中，第二十七祖名为优波膻大，此二人应皆与优波扇多为同一人。［开元释教录卷十三、阅藏知津卷十九、俱舍论法义卷一、缘山三大藏总目录卷中］
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三氟化氮（NF3）是卤化氮中最稳定的无机化合物，可在铜的催化下由氨气与氟气制成。 它可以用作氟化氢激光器的氧化剂，半导体、液晶和薄膜太阳能电池生产过程中的蚀刻剂。曾被试做火箭燃料。 但由于三氟化氮属于温室气体，能加剧温室效应，因此有人认为应该限制这种化合物的使用。
三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演「清洁剂」的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。
在半导体中，薄膜制程的主要设备是「化学气相沉积」（CVD）机台，会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金属材料，但这些材料不仅会附著在晶片上，也附著在反应室内的墙壁上，内墙上的二氧化矽累积至相当数量，就会在反应室内形成微尘粒子（Particle），影响晶圆片的良率。
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