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* 若头・元山勇武人(东滨一家・元山组组长)
* 舍弟头代行・真荣喜贞信（义真会会长）
* 本部长 - 冈本大司(吉永大二；吉永会会长)
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三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演「清洁剂」的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。
在半导体中，薄膜制程的主要设备是「化学气相沉积」（CVD）机台，会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金属材料，但这些材料不仅会附著在晶片上，也附著在反应室内的墙壁上，内墙上的二氧化矽累积至相当数量，就会在反应室内形成微尘粒子（Particle），影响晶圆片的良率。
因此每台CVD机台在处理过规定数量的晶圆片后，就要使用含氟的气体清洗，以去除内壁上的矽化物质。不过NF3与CF4、C2F6等气体都属于多氟碳化物，是造成温室效应的来源之一。半导体厂为了降低排气对温室效应的影响，在排放含氟废气前，会以高温（摄氏700、800度才进行）将气体由有机转分解为无机，才不会破坏臭氧层。
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车站是一座地面车站，设有1面1线的单式月台。前往备后落合方向的列车会开启左边车门。站内设有木制车站大楼。
此站是由木次铁道部管理的简易委托车站。车站事务室成为了建筑公司事务所，平日与部分星期六上班时间内会发售常备券。
根据「岛根县统计书」，以下为近年一日平均乘车人次列表。在1994年度的一日平均乘车人次为22人，1984年度年度的一日平均乘车人次为34人。
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