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抛光垫通常使用聚亚胺脂（Polyurethane）材料制造，又称聚氨酯抛光垫、抛光阻尼布、氧化铈抛光垫，利用这种多孔性材料类似海绵的机械特性和多孔特性，表面有特殊之沟槽，提高抛光的均匀性，垫上有时开有可视窗，便于线上检测。通常抛光垫为需要定时整修和更换之耗材，一个抛光垫虽不与晶圆直接接触，但使用寿命约仅为45至75小时。在全球不断并购下，目前主要生产厂商为陶氏化学集团（DOW CHEMICALS）及中国龙头合肥宏光研磨科技生产。
CMP设备与晶圆生产中的抛光设备有相似之处（见上图），但集成电路硅片中很多材料的加入以及金属层的增加使得CMP设备不能如同抛光设备那样简单，而需要加入特别的过程获得平坦化的效果。这主要体现在对抛光厚度、抛光速率的检测上，被称作终点检测，通常有电机电流终点检测、光学终点检测。
在抛光工艺过程中，磨料和被抛光对象都会造成硅片的沾污，清洗的主要目的就是为了清除这些沾污物质，使硅片的质量不致受到影响。所采用到的清洗设备有毛刷洗擦设备、酸性喷淋清洗设备、超声波清洗设备、旋转清洗干燥设备等。清洗步骤主要有氧化硅清洗、浅沟槽隔离清洗、多晶硅清洗、钨清洗、铜清洗等。
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冈山藩士、萩野闲吾的二男。历经陆军教导团，1881年12月 陆军士官学校（旧制第4期）毕业，以少尉军官任用。
1885年出任海参崴驻在武官，进行从西伯利亚到蒙古一带的侦察任务。
1904年2月日俄战争时，担任第1军参谋随军出征 。翌年6月，进级大佐调为歩兵第12连队长。以后，历任俄罗斯大使馆武官、歩兵第29旅团长、台湾第2守备队司令官等职。1914年3月进级陆军中将并编入预备役。因西伯利亚出兵一事被征召，从1919年1月至1922年11月担任浦塩派遣军司令部人员。
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平忠常（天延三年975年十月十九日—长元四年1031年六月二十八日）平安时代中期的武将和豪族。父亲为陆奥介平忠赖，是房総平氏之祖。
长元元年（1028年六月）平忠常在安房国起兵袭击国府并杀掉安房守平惟忠。朝廷命平直方出兵讨伐叛军，还没出征，上总国国府已经被忠常占领。讨伐军和忠常军战斗大约两年多但毫无成果。一年后，安房守藤原光业逃归京都，而讨伐军大将平直方被解职，改任甲斐守，最后由源赖信为讨伐军大将。忠常摄于赖信的声威而不战而降，随赖信归京城，但是在途中的美浓国病逝。
乱后，东国成为清和源氏的强国基地。忠常的子孙中，平千叶、平上总两氏有所发展。
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