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化学机械平坦化是在机械抛光的基础上根据所要抛光的表面加入相应的化学添加剂从而达到增强抛光和选择性抛光的效果。
氧化硅抛光主要被应用于平坦化金属层间淀积的层间介质（ILD），其基本机理是Cook理论。磨料中的水和氧化硅发生表面水合作用，从而使氧化硅的硬度、机械强度等有效降低，在机械力的作用下将氧化硅去除。氧化硅的去除速率主要由Preston方程表达。
金属抛光与氧化硅抛光机理有一定的区别，采用氧化的方法使金属氧化物在机械研磨中被去除。
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* 六烛䗃目 Hexamerocerata：又称六少足目
* 千烛䗃科 Millotauropodidae ：又称千少足科
* 四烛䗃目 Tetramerocerata：又称四少足目
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* 1955年2月11日：刑部町、上刑部村、丹治部村合并为大佐町。
* 新砥村、万岁村、本乡村合并为哲多町。
* 2005年3月31日：新见市、大佐町、神乡町、哲西町、哲多町合并为新设置的新见市。
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