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刘澍，字汝霖，号西岩，腾骧右卫籍陕西西安府蓝田县人，明朝政治人物。
顺天府乡试第九名举人。嘉靖十四年（1535年）中式乙未科会试第二百六十八名，登第二甲第二十三名进士。授工部营缮司主事，出为汝州知州，升济南府同知。嘉靖二十三年九月由河南按察司陈州兵备佥事升为湖广布政使司右参议。
曾祖刘得川；祖父刘杰；父刘亨，曾任教谕 赠征仕郎吏科给事中。母宗氏（赠孺人）。永感下。兄刘瀹。弟刘济，刑科都给事中；刘汲；刘潜。
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三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演「清洁剂」的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。
在半导体中，薄膜制程的主要设备是「化学气相沉积」（CVD）机台，会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金属材料，但这些材料不仅会附著在晶片上，也附著在反应室内的墙壁上，内墙上的二氧化矽累积至相当数量，就会在反应室内形成微尘粒子（Particle），影响晶圆片的良率。
因此每台CVD机台在处理过规定数量的晶圆片后，就要使用含氟的气体清洗，以去除内壁上的矽化物质。不过NF3与CF4、C2F6等气体都属于多氟碳化物，是造成温室效应的来源之一。半导体厂为了降低排气对温室效应的影响，在排放含氟废气前，会以高温（摄氏700、800度才进行）将气体由有机转分解为无机，才不会破坏臭氧层。
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大学成立于1965年，最早设立经济学和理学专业，后逐步发展为综合大学。东京校区的设施与城西国际大学、城西短期大学共享。
紧邻城西大学的明海大学（牙医学部）与城西大学同源，但目前是独立的学校。
* 城西川越中学校・城西大学付属川越高等学校
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