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三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演「清洁剂」的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。
在半导体中，薄膜制程的主要设备是「化学气相沉积」（CVD）机台，会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金属材料，但这些材料不仅会附著在晶片上，也附著在反应室内的墙壁上，内墙上的二氧化矽累积至相当数量，就会在反应室内形成微尘粒子（Particle），影响晶圆片的良率。
因此每台CVD机台在处理过规定数量的晶圆片后，就要使用含氟的气体清洗，以去除内壁上的矽化物质。不过NF3与CF4、C2F6等气体都属于多氟碳化物，是造成温室效应的来源之一。半导体厂为了降低排气对温室效应的影响，在排放含氟废气前，会以高温（摄氏700、800度才进行）将气体由有机转分解为无机，才不会破坏臭氧层。
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以千总从副将军明亮征金川有功，积官至越巂营参将。乾隆四十五年四月，从成都将军特成额驻兵江卡，捕夹坝，围本肯贼寨，烧贼碉堡。四十七年十二月，擢懋功协副将。五十二年，台湾林爽文为乱，张芝元率屯练降番赴台参战。参赞海兰察等分攻大埔林、中林、大埔尾三庄，张芝元带兵策应。贼据小半天山，将军福康安等由前山进；张芝元与领队大臣普尔普领广东兵及屯练兵另为一路，夜半先登，绕大山夹攻贼军后方。黎明时，各路清军同抵山麓，攀山而上，张芝元先登，斩获无算，并堵贼军去路。未几，林爽文就擒。台湾平，擢建昌镇总兵，图形紫光阁，列前二十功臣。不久，调松潘镇总兵。廓尔喀掠西藏济咙、聂拉木，张芝元率兵破贼。廓尔喀再叛，张芝元偕提督成德督兵攻聂拉木，守拍甲岭隘口断贼军援兵，清军遂攻下聂拉木；乘胜攻克济咙。贼首拉特纳布都尔悔罪乞降，廓尔喀平定。五十七年九月，卒。
五十八年，论平定廓尔喀功，再图形紫光阁，列后十五功臣。
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