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加瓦尔油田（Ghawar Oil field）位于沙特阿拉伯东部，首都利雅得以东约500km处，是目前全球探明储量最大的油田，也是世界最大的陆上油田，总储量超过700亿桶。
沙特阿拉伯于1948年在波斯湾盆地发现，并于1951年开始投产。产层为侏罗系碳酸盐岩，深度2200米，油田面积为3264平方千米。2005年剩余可采储量还有700亿桶（95.5亿吨）。
加瓦尔油田探明储量达112亿吨，年产量高达2.8亿吨，占整个波斯湾地区的30％。腊量少，多为轻质油，凝固点低于-20℃，便于运输。有输油管通腊斯塔努拉油港（世界最大油港）外运。
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抛光垫通常使用聚亚胺脂（Polyurethane）材料制造，又称聚氨酯抛光垫、抛光阻尼布、氧化铈抛光垫，利用这种多孔性材料类似海绵的机械特性和多孔特性，表面有特殊之沟槽，提高抛光的均匀性，垫上有时开有可视窗，便于线上检测。通常抛光垫为需要定时整修和更换之耗材，一个抛光垫虽不与晶圆直接接触，但使用寿命约仅为45至75小时。在全球不断并购下，目前主要生产厂商为陶氏化学集团（DOW CHEMICALS）及中国龙头合肥宏光研磨科技生产。
CMP设备与晶圆生产中的抛光设备有相似之处（见上图），但集成电路硅片中很多材料的加入以及金属层的增加使得CMP设备不能如同抛光设备那样简单，而需要加入特别的过程获得平坦化的效果。这主要体现在对抛光厚度、抛光速率的检测上，被称作终点检测，通常有电机电流终点检测、光学终点检测。
在抛光工艺过程中，磨料和被抛光对象都会造成硅片的沾污，清洗的主要目的就是为了清除这些沾污物质，使硅片的质量不致受到影响。所采用到的清洗设备有毛刷洗擦设备、酸性喷淋清洗设备、超声波清洗设备、旋转清洗干燥设备等。清洗步骤主要有氧化硅清洗、浅沟槽隔离清洗、多晶硅清洗、钨清洗、铜清洗等。
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在2001年8月30日举行的2001年东帝汶议会选举中，民主党获得了8.7%的选票和 88个席位中的7个席位，在议会中排名第二，仅次于东帝汶独立革命阵线。
在2007年4月的2007年东帝汶总统选举中，民主党领袖费尔南多·德·阿劳以19.18%的得票率位居第三。
在2007年东帝汶议会选举的结果中，民主党获得11.30%的选票，名列第四。
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