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通过上述直拉工艺制备的单晶硅是制造大积体电路的基础材料，被用于计算机、电视机、移动电话和其他各种电子设备中。

使用直拉法工艺制备单晶硅时，常用石英（主要成分为二氧化硅）坩埚作为器皿。这样做的一个不可避免的结果，就是器皿本身因为高温加热，将发生热分解，导致熔融状态硅中混入氧，其浓度的典型数量级为1018cm-3。氧杂质将带来一些好处。严格的退火工艺可以使氧沉淀下来。这些氧可以俘获半导体材料中不必要的过渡金属。除此之外，氧杂质还能够改善硅晶圆的机械强度，因为它能够固定制备流程中被引入的位错。1990年代，高浓度氧被发现能够在硅材料粒子探测器（例如欧洲核子研究组织中的大型强子对撞机项目）中用于辐射加固。因此，用这样的硅制成的辐射探测器，是将来进行高能粒子实验的理想设备。在后期的退火过程中，硅中的氧杂质也能俘获其他不必要的杂质。

然而，氧杂质能够在光照环境中与硼发生反应，这与太阳能电池的情况类似。这将形成电活跃的硼-氧络合物。

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淡灰海蛇（学名：Hydrophis ornatus）为眼镜蛇科海蛇属的爬行动物，俗名黑点海蛇。分布于从波斯湾经印度半岛沿岸到印澳海域、台湾岛以及中国大陆的广西、广东、海南、山东沿海等地。

全长1米左右。头大，吻钝圆，鼻孔背位，体很侧扁。上唇鳞7（2—2—3）枚，无颊鳞；眶前鳞1枚，眶后鳞2枚；颞鳞2枚+3枚。背鳞颈部33～41行，体最粗部40～49行，呈六角形，略呈覆瓦状排列或相嵌排列，有中央结节或短棱；腹鳞231～299枚，前部较宽，为相邻背鳞的2倍，后部较窄；肛前鳞略大。头背黑色、橄榄色或灰色，体尾背面淡灰色或橄榄色，有51～59个+9～11个黑色或深色宽环斑，此斑不达腹中央；腹部浅黄色或白色。

* 截吻海蛇（学名：Kerilia jerdonii siamensis），Smith于1926年命名。分布于孟加拉湾到斯里兰卡、向东沿马来半岛沿海到泰国湾、南中国海、南到加里曼丹西部沿海以及中国大陆的台湾海峡等地。该物种的模式产地在Patani湾。

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