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原子层沉积（英文：Atomic layer deposition）是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积（化学气相沉积）有相似之处。但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。原子层沉积的主要反应物有两种化学物质，通常被称作前驱物。前驱产物和材料表面发生连续的，自限性的反应。薄膜通过分别和不同的前驱产物进行反应缓慢沉积。原子层沉积是关键的半导体设备装配方法，也可以成为一些纳米材料合成方法中的一环。

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王度，字惟贞，四川顺庆府南充县人，民籍。

治《易经》，行三，由国子生中式四川乡试第十七名举人，年三十四岁中式正德三年（1508年）戊辰科会试第二百十二名，第三甲第一百八十名进士。考选理刑进士，四年十月授福建道试御史，十二年巡按湖广，巡抚都御史秦金征剿郴桂猺峒贼龚福全等叛军，王度随军纪功，十三年正月奏捷献俘，升俸一级。入为掌道御史，十四年四月升江西按察司副使，十六年剿平进入江西的闽广流贼。

曾祖王寿昌。祖父王定。父王廷玺，寿官。前嫡母文氏；生母史氏。具庆下。兄雍、济、弟。

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* 建国（338年十一月-376年）：代政权拓跋什翼犍年号

* 永兴（350年闰二月—352年四月）：冉魏政权冉闵年号

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