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日蒙关系，包括双方在历史上的不同时期的双边关系。最早始于公元13世纪，然而两国直到1972年2月24日才树立邦交。

1259年（正元元年・元宪宗9年），高丽抵抗蒙古势力武人政权倒台，1260年（文应元年、中统元年）忽必烈上台，对高丽方针由武力征服变更为怀柔政策。高丽成为后来蒙古侵略日本的协力者。

蒙古帝国灭金朝以后，负责漠南汉地事务的忽必烈于1260年在中原即位称帝。同年，高丽元宗向其称臣，高丽成为其东藩，而蒙古帝国其后又与高丽结盟。1271年忽必烈于中原地区建立元朝，定都大都（今北京），并于两年之后要求高丽派使者赴日本，希望与日本“通好”。但均为日本拒绝。

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特里·阿奇尔·韦尔奇（Terry Archer Welch，11月22日）是一名美国计算机科学家。他与亚伯拉罕·蓝波和杰可布·立夫一起开发无损的LZW数据压缩，该算法于1984年发表。

韦尔奇在麻省理工学院获得电机工程学的学士、硕士和博士学位。他在德克萨斯大学奥斯汀分校任教，并在麻萨诸塞州沃尔瑟姆的汉威联合从事计算机设计工作。

韦尔奇在德克萨斯大学奥斯汀分校任教，直到1976年加入麻萨诸塞州Sudbury, Massachusetts的Sperry Corporation，并在那里发表关于LZW算法的论文。1983年，他加入DEC，成为DEC与MCC高级计算机架构项目的联络人。

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三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演「清洁剂」的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。

在半导体中，薄膜制程的主要设备是「化学气相沉积」（CVD）机台，会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金属材料，但这些材料不仅会附著在晶片上，也附著在反应室内的墙壁上，内墙上的二氧化矽累积至相当数量，就会在反应室内形成微尘粒子（Particle），影响晶圆片的良率。

因此每台CVD机台在处理过规定数量的晶圆片后，就要使用含氟的气体清洗，以去除内壁上的矽化物质。不过NF3与CF4、C2F6等气体都属于多氟碳化物，是造成温室效应的来源之一。半导体厂为了降低排气对温室效应的影响，在排放含氟废气前，会以高温（摄氏700、800度才进行）将气体由有机转分解为无机，才不会破坏臭氧层。

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