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更新于 2026-10-06

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使用传统的矽半导体器件制造技术,即可在晶圆上形成SiGe。在CMOS制程方面,SiGe制程的成本和矽制程相当,但在异质接面技术方面,SiGe制程的成本比砷化镓制程还要低。近来,使用有机金属气相磊晶 (MOVPE)沉积高纯度的含Ge薄膜、SiGe和应变矽时,会使用只有少量危害的液体来当做替代物,像有机锗化合物前体(如:异丁基锗烷、三氯锗烷、二甲氨基三氯锗烷)。

拥有SiGe制作服务的共有以下几家公司:国际商务机器(IBM)、意法半导体(STMicroelectronics)、台湾积体电路制造股份有限公司(TSMC)、飞思卡尔(Freescale,原本的摩托罗拉半导体部门)、索尼(Sony)、Atmel、Chartered Semiconductor Manufacturing、Micrel、英飞凌(Infineon)、德州仪器(TI)、IHP、Jazz Semiconductor,原本的胜讯(Conexant)。超微半导体(AMD)有意加入IBM的SiGe应变矽技术开发计划,让技术迈入65nm级规模。

2015年七月,IBM公司宣布通过SiGe工艺制成了7 nanometer级晶体管,有望使晶体管的产量上升三倍。

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《安妮日记》(The Diary of Anne Frank),又译安妮少女日记,是1959年自同名作品改编的一部电影,由乔治·史蒂文斯执导。这是《安妮日记》改编的第一部电影。电影内景摄于洛杉矶的摄影棚中,外景则在阿姆斯特丹拍摄。

这部电影上映后广受好评,1960年获得三项奥斯卡奖,即最佳女配角奖(谢利·温特斯)、最佳摄影奖和最佳艺术指导奖。同年又获得金球奖。2006年,它又被评为AFI百年百大励志电影之一。

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* 卷五:仁义第十三、论忠义第十四、孝友第十五、公平第十六、诚信第十七

* 卷六:俭约第十八、谦让第十九、仁恻第二十、慎所好第二十一、慎言语第二十二、杜谗邪第二十三、悔过第二十四、奢纵第二十五、贪鄙第二十六

* 卷七:崇儒学第二十七、文史第二十八、礼乐第二十九

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