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化学机械平坦化 （Chemical-Mechanical Planarization, CMP），又称化学机械研磨（Chemical-Mechanical Polishing），是半导体器件制造工艺中的一种技术，使用化学腐蚀及机械力对加工过程中的硅晶圆或其它衬底材料进行平坦化处理。
CMP技术早期主要应用于光学镜片的抛光和晶圆的抛光。
20世纪70年代，多层金属化技术被引入到集成电路制造工艺中，此技术使芯片的垂直空间得到有效的利用，并提高了器件的集成度。但这项技术使得硅片表面不平整度加剧，由此引发的一系列问题（如引起光刻胶厚度不均进而导致光刻受限）严重影响了大规模集成电路（LSI）的发展。针对这一问题，业界先后开发了多种平坦化技术，主要有反刻、玻璃回流、旋涂膜层等，但效果并不理想。80年代末，IBM公司将CMP技术进行了发展使之应用于硅片的平坦化，其在表面平坦化上的效果较传统的平坦化技术有了极大的改善，从而使之成为了大规模集成电路制造中有关键地位的平坦化技术。
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上海市浦东新区陆家嘴图书馆地处上海市浦东新区陆家嘴，是国家一级图书馆，图书馆由两个分部组成，分别位于东方路38号和浦城路150号。
陆家嘴图书馆由原浦东第一图书馆（东方路38号）和浦东第二图书馆（浦城路150号）在2007年1月合并建立。其中第一图书馆是由香港陈占美先生捐资建造，于1986年开放。第二图书馆由陈占美先生的夫人李云华女士捐赠，于1989年对外开放。原属于杨浦区文化局管理，1994年后移交浦东新区。
图书馆馆藏总量422977册，其中纸质图书339966册，报纸期刊1127种，阅览席位416席，年均外借册次32万册。
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集邮博物馆（Philately Museum）是一家网络集邮博物馆，博物馆的宗旨是让邮友们在这个平台上能够找到关于集邮的资讯。博物馆的顾问团队包括国际集邮联合会（FIP）副主席兼亚邮联主席Prakob Chirakiti RDP会士, 原英国皇家邮学会（RPSL）会长 Patrick Maselis RDP会士, 皇家邮学会会士何辉庆教授，香港著名集邮家王剑智会士, 大英图书馆集邮部会士Richard Morel，皇家邮学会IT委员会主席Mark Bailey会士, 美国集邮协会总编Gary Loew和美国集邮网红Graham Beck。集邮博物馆创办人为张华东（Jack Zhang) 为中华全国集邮联合会（ACPF）理事，英国皇家邮学会（RPSL）理事和会士（FRPSL）。
集邮博物馆自创建以来，深受集邮爱好者们喜爱，博物馆网站还被登在美国集邮协会（APS）的官网上。
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