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宁石高速公路重点控制性工程之一，连接宁陕、石泉两县，为左右分离式隧道，左线全长7185米、右线全长7209米，隧道大部分以Ⅴ级围岩为主。穿越8个断层带和7个富水带，最大埋深751米。于2021年9月30日贯通。

2017年6月6日，陕西省高速公路建设集团发布宁石高速公路工程勘察设计招标公告。7月7日，陕西省交通运输厅发布宁石高速公路PPP项目社会投资人招标资格预审公告。7月24日，工程勘察设计招标结果公示，陕西省交通规划设计研究院、西安公路研究院分别成为一、二标段的第一中标候选人。10月9日，中国葛洲坝集团和百和六号（深圳）投资合伙企业（有限合伙）组成的联合体，成功中标宁石高速公路PPP项目社会投资人。12月27日，宁陕至石泉等5条高速公路项目在西安市长安区集中举行了开工仪式。

2019年3月，路基桥隧工程正式开工。6月18日，陕西省生态环境厅以陕环评批复〔2019〕22号文件批复了宁石高速公路环境影响报告书。11月1日，宁石高速公路环境影响评价相关事项公示。

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CMP技术早期主要应用于光学镜片的抛光和晶圆的抛光。

20世纪70年代，多层金属化技术被引入到集成电路制造工艺中，此技术使芯片的垂直空间得到有效的利用，并提高了器件的集成度。但这项技术使得硅片表面不平整度加剧，由此引发的一系列问题（如引起光刻胶厚度不均进而导致光刻受限）严重影响了大规模集成电路（LSI）的发展。针对这一问题，业界先后开发了多种平坦化技术，主要有反刻、玻璃回流、旋涂膜层等，但效果并不理想。80年代末，IBM公司将CMP技术进行了发展使之应用于硅片的平坦化，其在表面平坦化上的效果较传统的平坦化技术有了极大的改善，从而使之成为了大规模集成电路制造中有关键地位的平坦化技术。

化学机械平坦化是表面全局平坦化技术中的一种，既可以认为是化学增强型机械抛光也可以认为是机械增强型湿法化学刻蚀。该工艺使用具有研磨性和腐蚀性的磨料，并配合使用抛光垫和支撑环。抛光垫的尺寸通常比硅片要大。抛光垫和硅片被一个可活动的抛光头压在一起，而塑料的支撑环则用于保持硅片的位置。硅片和抛光垫同时转动（通常是以相反的方向转），但是它们的中心并不重合。在这个过程中硅片表面的材料和不规则结构都被除去，从而达到平坦化的目的。平面化后的硅片表面使得干式刻蚀中的图样的成型更加容易。平滑的硅片表面还使得使用更小的金属图样成为可能，从而能够提高集成度。

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