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李日章，字尚䌹，号海楼，南直隶松江府华亭县人，民籍。

治《书经》，行四，由县学附学生中式壬午科（1522年）应天府乡试第九十二名举人，年二十七岁中式嘉靖二年（1523年）癸未科会试第一百九十四名，第二甲第一百名进士。授刑部主事，历郎中，出为襄阳府知府，调任长沙府。精通律例，全力抑止郡人好诬喜讼恶习。嘉靖十七年（1538年）二月升山东按察司副使，父丧归家。有《狎鸥亭稿》。

曾祖李晟。祖父李枰，寿官。父李霆，训导。母许氏。具庆下。兄李谌，听选官；李训；李日宣；弟日就、日积、日进。

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这里的相不仅指固体，液体，气体，而且也指不混溶的液体，例如，油和水。绝大多数实际的多相催化剂是固体，而绝大多数反应物是气体或液体。在化学和能源行业的许多领域，多相催化是至关重要的。多相催化吸引了1936年的弗里茨·哈伯（Fritz Haber）和卡尔·博施（Carl Bosch），1932年的欧文·朗缪尔（Irving Langmuir），和2007年的格哈德·埃特尔（Gerhard Ertl）荣获诺贝尔奖。

吸附是多相催化中必不可少的步骤。吸附是气相（或溶液）相分子（被吸附物）与固体（或液体）表面原子（吸附剂）结合的过程。吸附的逆过程是Desorption (Desorption)，吸附质从吸附剂中分离出来。在多相催化促进的反应中，催化剂是吸附剂，反应物是吸附物。

在工业中，必须考虑许多设计变量，包括跨从亚纳米到几十米的多个尺度的反应器和催化剂设计。传统的多相催化反应器包括间歇式、连续式和流化床反应器，而最近的装置包括固定床、微通道和多功能反应器。其他需要考虑的变量是反应器尺寸、表面积、催化剂类型、催化剂载体，以及反应器操作条件，例如温度、压力和反应物浓度。

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脉冲雷射沉积（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被称为脉冲雷射烧蚀（pulsed laser ablation，PLA）为物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)的一种 , 是一种利用聚焦后的高功率脉冲雷射于真空腔体中对靶材进行轰击，由于雷射能量极强，会将靶材汽化形成电浆蕈状团(plasma plume)，并沉淀于基板上形成薄膜。

于镀膜可于高真空、超高真空或通入工作气体(如欲沉积氧化物薄膜，通常会通入氧气作为其工作气体)的环境下进行。

于脉冲雷射沉积的过程中，雷射的能量被靶材吸收之后，能量首先激发靶材内部的电子跃迁，之后再转成热能等使靶材汽化形成电浆态，于电浆云中，包含分子、原子、电子、离子、微粒、融球体等物质。

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