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矽锗（Silicon-germanium，缩写为SiGe），是一种合金，依矽和锗的莫耳比可以表示成SixGe1-x。常被用作积体电路（IC）中的半导体材料，可做成异质结双极性晶体管或CMOS电晶体中的应变诱发层（strain-inducing layer）。IBM公司于1989年在工业生产中引入了硅锗合金相关技术，这一新技术使混合讯号积体电路和类比积体电路的设计与生产多了一项选择。

使用传统的矽半导体器件制造技术，即可在晶圆上形成SiGe。在CMOS制程方面，SiGe制程的成本和矽制程相当，但在异质接面技术方面，SiGe制程的成本比砷化镓制程还要低。近来，使用有机金属气相磊晶（MOVPE）沉积高纯度的含Ge薄膜、SiGe和应变矽时，会使用只有少量危害的液体来当做替代物，像有机锗化合物前体（如：异丁基锗烷、三氯锗烷、二甲氨基三氯锗烷）。

拥有SiGe制作服务的共有以下几家公司：国际商务机器（IBM）、意法半导体（STMicroelectronics）、台湾积体电路制造股份有限公司（TSMC）、飞思卡尔（Freescale，原本的摩托罗拉半导体部门）、索尼（Sony）、Atmel、Chartered Semiconductor Manufacturing、Micrel、英飞凌（Infineon）、德州仪器（TI）、IHP、Jazz Semiconductor，原本的胜讯（Conexant）。超微半导体（AMD）有意加入IBM的SiGe应变矽技术开发计划，让技术迈入65nm级规模。

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* 1907年日本陆军士官学校毕业，同年任步兵第3联队少尉

* 1928年参谋本部作战班长兼军令部参谋

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赛乌斯劳国家森林（Siuslaw National Forest）是一座位于美国俄勒冈州西部的国家森林，于1998年设立。森林内生态系统丰富，从海岸森林到沙丘应有尽有。

赛乌斯劳国家森林覆盖了Coos Bay, Oregon至Tillamook, Oregon之间超过2500平方公里的俄勒冈州中部海岸，有几处从海岸向东延伸，越过Oregon Coast Range的顶峰，接近威拉米特谷。森林主要位于莱恩县（39%的面积）与林肯县（27%的面积），其余部分按面积递减分别位于蒂拉穆克县、道格拉斯县、亚姆希尔县、本顿县、库斯县和波尔克县。

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