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冯启匡很小的时候就在寓所楼下踢足球，直至参加香港足球总会的足球发展计划，才有机会接受正统训练。

随著足总的足球发展计划，冯启匡后来入选新界南代表队，更在比赛中被黎新祥相中，入选香港U16接受训练。

冯启匡曾就读棉纺会中学，中四就离开学校，中学时期是校内坏分子，经常给老师罚和骂。

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三氟化氮（NF3）是卤化氮中最稳定的无机化合物，可在铜的催化下由氨气与氟气制成。它可以用作氟化氢激光器的氧化剂，半导体、液晶和薄膜太阳能电池生产过程中的蚀刻剂。曾被试做火箭燃料。但由于三氟化氮属于温室气体，能加剧温室效应，因此有人认为应该限制这种化合物的使用。

三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演「清洁剂」的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。

在半导体中，薄膜制程的主要设备是「化学气相沉积」（CVD）机台，会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金属材料，但这些材料不仅会附著在晶片上，也附著在反应室内的墙壁上，内墙上的二氧化矽累积至相当数量，就会在反应室内形成微尘粒子（Particle），影响晶圆片的良率。

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