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CMP技术早期主要应用于光学镜片的抛光和晶圆的抛光。
20世纪70年代，多层金属化技术被引入到集成电路制造工艺中，此技术使芯片的垂直空间得到有效的利用，并提高了器件的集成度。但这项技术使得硅片表面不平整度加剧，由此引发的一系列问题（如引起光刻胶厚度不均进而导致光刻受限）严重影响了大规模集成电路（LSI）的发展。针对这一问题，业界先后开发了多种平坦化技术，主要有反刻、玻璃回流、旋涂膜层等，但效果并不理想。80年代末，IBM公司将CMP技术进行了发展使之应用于硅片的平坦化，其在表面平坦化上的效果较传统的平坦化技术有了极大的改善，从而使之成为了大规模集成电路制造中有关键地位的平坦化技术。
化学机械平坦化是表面全局平坦化技术中的一种，既可以认为是化学增强型机械抛光也可以认为是机械增强型湿法化学刻蚀。该工艺使用具有研磨性和腐蚀性的磨料，并配合使用抛光垫和支撑环。抛光垫的尺寸通常比硅片要大。抛光垫和硅片被一个可活动的抛光头压在一起，而塑料的支撑环则用于保持硅片的位置。硅片和抛光垫同时转动（通常是以相反的方向转），但是它们的中心并不重合。在这个过程中硅片表面的材料和不规则结构都被除去，从而达到平坦化的目的。平面化后的硅片表面使得干式刻蚀中的图样的成型更加容易。平滑的硅片表面还使得使用更小的金属图样成为可能，从而能够提高集成度。
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在澳洲，无论何时举行选举，澳洲国会参议院议员在选举后的7月1日起上任，直至三年后的6月30日，而众议院议员则在选举后立即上任。由于参议院的选举和上任时间有差异，当政党或其联盟在选举后注定失去多数党地位，将造成跛脚鸭议会的出现。
例如，在2004年10月的澳洲联邦选举，自由党和国家党的联盟将获得参议院多数议席，但参议院任期到2005年7月才届满。5月，旧参议院便拒绝已由众议院通过的新税务法例，旨在延缓其通过，直至新参议院上场。
在美国，11月总统和国会选举后、下年初新选出公职人员宣誓前的时期，被称作跛脚鸭时期。1933年以前，国会和总统宣誓就职在3月4日举行。当时国会通常有两个会期，当中第二个会期为选举后的12月至明年3月。这段会期被称作跛脚鸭会期。这安排受到批评，并促成了美国宪法第二十修正案，将新一届国会开始日期推前至1月3日，而总统宣誓就职则推前至1月20日，缩短了跛脚鸭时期。
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