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老约瑟夫·西蒙·「乔」·唐纳利（Joseph Simon "Joe" Donnelly Sr.；），是一位美国民主党政治人物，自2013年担任印第安纳州美国参议院议员。

2011年5月，唐纳利宣布他有意竞逐美国参议院议席，一年后，他在无对手的情况下赢得民主党印第安纳州美国参议院议员初选。唐纳利的竞选对手是共和党籍、在共和党初选中击败已任职36年之参议员理查德·卢格的Indiana State Treasurer李察·莫达克。2012年11月6日，唐纳利在大选中以50%选票当选为新任印第安纳州美国参议院议员。

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曾担任几家欧洲报纸的自由记者，前往阿富汗、巴基斯坦、中国大陆、加勒比海群岛、马格里布国家、日本、巴拿马、乌克兰、捷克、斯洛文尼亚、克罗地亚、意大利、奥地利、匈牙利等等地参与实地报道。分别在1979年、1984年、1989年和1994年参与竞选欧洲议会。

1993年开始，居住在布达佩斯，曾担任奥托·冯·哈布斯堡博士的办公室主任，在匈牙利发起泛欧运动。担任布达佩斯技术大学理事。

1993年至1997年，担任MTM通信公司董事，该公司是中欧最大的电影制片商和分销商。1996年到2002年，担任MTM- SBS电视台公司的董事会的成员，该公司拥有匈牙利领先的商业电视台- TV2。

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CMP技术早期主要应用于光学镜片的抛光和晶圆的抛光。

20世纪70年代，多层金属化技术被引入到集成电路制造工艺中，此技术使芯片的垂直空间得到有效的利用，并提高了器件的集成度。但这项技术使得硅片表面不平整度加剧，由此引发的一系列问题（如引起光刻胶厚度不均进而导致光刻受限）严重影响了大规模集成电路（LSI）的发展。针对这一问题，业界先后开发了多种平坦化技术，主要有反刻、玻璃回流、旋涂膜层等，但效果并不理想。80年代末，IBM公司将CMP技术进行了发展使之应用于硅片的平坦化，其在表面平坦化上的效果较传统的平坦化技术有了极大的改善，从而使之成为了大规模集成电路制造中有关键地位的平坦化技术。

化学机械平坦化是表面全局平坦化技术中的一种，既可以认为是化学增强型机械抛光也可以认为是机械增强型湿法化学刻蚀。该工艺使用具有研磨性和腐蚀性的磨料，并配合使用抛光垫和支撑环。抛光垫的尺寸通常比硅片要大。抛光垫和硅片被一个可活动的抛光头压在一起，而塑料的支撑环则用于保持硅片的位置。硅片和抛光垫同时转动（通常是以相反的方向转），但是它们的中心并不重合。在这个过程中硅片表面的材料和不规则结构都被除去，从而达到平坦化的目的。平面化后的硅片表面使得干式刻蚀中的图样的成型更加容易。平滑的硅片表面还使得使用更小的金属图样成为可能，从而能够提高集成度。

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