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三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演「清洁剂」的角色,不过这类清洁剂是气态,而非液态。
在半导体中,薄膜制程的主要设备是「化学气相沉积」(CVD)机台,会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金属材料,但这些材料不仅会附著在晶片上,也附著在反应室内的墙壁上,内墙上的二氧化矽累积至相当数量,就会在反应室内形成微尘粒子(Particle),影响晶圆片的良率。
因此每台CVD机台在处理过规定数量的晶圆片后,就要使用含氟的气体清洗,以去除内壁上的矽化物质。不过NF3与CF4、C2F6等气体都属于多氟碳化物,是造成温室效应的来源之一。半导体厂为了降低排气对温室效应的影响,在排放含氟废气前,会以高温(摄氏700、800度才进行)将气体由有机转分解为无机,才不会破坏臭氧层。
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弗朗茨城的发展始于18世纪后期。在1799年和1838年,弗朗茨城的很多建筑被多瑙河洪水摧毁。后来的建筑用砖和石头代替土坯,以避免严重的洪水灾害。19世纪下半叶,该区发生工业化。在此期间,弗朗茨城修建了5个面粉厂、屠宰场(匈牙利最大的)和市场大厅。
弗朗茨城是一个混合区:沿多瑙河地区(国家剧院,MÜPA,艺术宫都设在这里,多个大学在此或附近)有一个半步行街,Ráday街,与许多餐厅,咖啡厅,内陆地带有很多新的建筑物(见下文)。
主要是由于近年来大规模的房屋重建和随之而来的士绅化,在过去15年间,过去工人阶级的弗朗茨城已成为布达佩斯最有吸引力的地区之一,尤其受到中等偏下到中产阶级的二三十岁者的欢迎。该区既充满活力,又拥有市中心区少有的健康的户外空间(有大片的绿化)。
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