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宇文盛，字保兴，代人，中国南北朝时期西魏、北周的军事人物，沃野镇军主宇文文孤之子。

宇文盛的祖先本为破野头氏，臣属于鲜卑宇文俟豆归，随主人改姓为宇文氏。

宇文盛入宇文泰幕下，讨伐侯莫陈悦，任威烈将军，封渔阳县子。537年，兼都督。从军讨伐窦泰，夺弘农，参加沙苑之战，任都督、平远将军、歩兵校尉，进爵位为公。后担任冯翊郡太守，加帅都督、西安州大中正、通直散骑常侍、抚军将军。历任大都督、车骑大将军、仪同三司、骠骑大将军、开府仪同三司、盐州刺史。

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直拉法最重要的应用是晶锭、晶棒、单晶硅的生长。其他的半导体，例如砷化镓，也可以利用直拉法进行生长，也有一些其他方法（如布里奇曼-史托巴格法）可以获得更低的晶体缺陷密度。

高纯度的半导体级多晶硅在一个坩埚（通常是由石英制成）中被加热至熔融状态。诸如硼原子和磷原子的杂质原子可以精确定量地被掺入熔融的硅中，这样就可以使硅变为P型或N型硅。这个掺杂过程将改变硅的电学性质。将晶种（或称“籽晶”）置于一根精确定向的棒的末端，并使末端浸入熔融状态的硅。然后，将棒缓慢地向上提拉，同时进行旋转。如果对棒的温度梯度、提拉速率、旋转速率进行精确控制，那么就可以在棒的末端得到一根较大的、圆柱体状的单晶晶锭。通过研究晶体生长中温度、速度的影响，可以尽量避免不必要的结果。上述过程通常在惰性气体（例如氩）氛围中进行，并采用坩埚这种由较稳定的化学材料制成的反应室。

为了提高半导体工业的生产效率，常常按一定标准规格来生产晶圆。早期的晶棒较小，直径通常只有几英寸。随着技术的进步，高端的制造一起开始使用200毫米甚至300毫米直径的晶圆。要准确地制造这样尺寸的晶圆，必须严格控制工作温度、旋转速度以及晶种棒的提拉速度。用于切割成晶圆的晶锭长达2米，重达几百千克。更大的晶圆可以进一步提升制造效率，这是因为利用单个晶圆能够制造出更多的芯片。这也是人们不断尝试增大硅晶圆尺寸的原因。现在，半导体工业界正在挑战450毫米级别的晶圆，计划在2012年投产。硅晶圆的典型厚度在0.2至0.75毫米之间，通过抛光技术可以使表面更加平滑，这样更适合制造积体电路。此外，通过刻出特定的纹路，晶圆还可以用来制造太阳能电池。

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出身吴郡张氏，后汉蜀郡太守张睦，字选公，始居吴郡。裔孙张绪为南齐中书令，绪生充为梁左仆射。充生绍，梁零陵郡太守。绍生冲字叔玄，隋汉王侍读。冲生后胤为唐太宗师，位至国子祭酒。胤生律师，位至雍州长史。

* 祖：张义方，字仪，邢滑苏汉等州刺史。

其父张齐丘是朔方节度使，张镒以父荫授左卫兵曹参军。关内副元帅郭子仪以张镒为元帅府判官。授大理评事，累迁殿中侍御史。乾元初年贬抚州司户参军。再贬晋陵令。江西观察使张镐表为判官，再迁屯田员外郎。与杨绾、崔祐甫友善。大历初年，出京担任濠州刺史。历官江西、河中观察使。建中二年（781年），拜中书侍郎、同中书门下平章事。卢杞忌张镒忠直，以张镒为凤翔陇右节度使。张镒请以韦皋权知陇州。

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